Catalog No. A6690
Z-Nle-OH.CHA
含N端保护基团,用于多肽合成的中间体或构建片段。
| 规格 | 价格 | 货期 | 数量 |
|---|---|---|---|
| 25g | ¥1800.00 | 10-15工作日发货 | |
| 100g | ¥3600.00 | 10-15工作日发货 |
纯度:98.00%
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A
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特色产品
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产品描述
Z-Nle-OH.CHA是一种N端保护型氨基酸衍生物,其结构含有N-苄氧羰基保护基团(Z基团)以及正亮氨酸(Nle)残基,羧基端以环己胺(CHA)成盐形式稳定。该化合物常用于多肽合成领域,作为中间体或构建片段,以控制目标肽链的方向性与特异性。研究表明,利用该类保护衍生物可避免副反应发生,提高多肽合成过程中目标序列的纯度,广泛应用于多肽药物以及生物活性分子研究领域。
产品性质
| 分子式 | C20H32N2O4 |
| 分子量 | 364.48 |
| 化学名称 | cyclohexanamine (S,E)-2-(((benzyloxy)oxidomethylene)amino)hexanoate |
| SMILES | CCCC[C@@H](C(O)=O)/N=C(\O)/OCc1ccccc1.NC1CCCCC1 |
| 存储条件 | -20°C |
| 运输条件 | 蓝冰 |
质量控制
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操作说明
摩尔浓度计算器
质量
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x 体积
x 分子量
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